LTS -20℃~80℃

2023-05-17 2128

È ampiamente utilizzato nel processo di produzione dei semiconduttori per controllare la temperatura della camera di reazione, la temperatura del dissipatore di calore e il controllo della temperatura del fluido non infiammabile della med...

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LTS -40℃~80℃

2023-05-17 2232

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer...

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LTS -60℃~80℃

2023-05-17 2156

È ampiamente utilizzato nel processo di produzione dei semiconduttori per controllare la temperatura della camera di reazione, la temperatura del dissipatore di calore e il controllo della temperatura del fluido non infiammabile della med...

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LTS -80℃~80℃

2023-05-17 2101

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer me...

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